多維度芯片互連,從原理到應(yīng)用,看懂改變游戲規(guī)則的新技術(shù)。
01
芯片封裝與測試:半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵“守門員”
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中,芯片封裝與測試扮演著至關(guān)重要的角色,堪稱芯片制造的“最后一公里”。簡單來說,芯片封裝就是通過特定的材料和工藝技術(shù),對芯片進行安放、固定和密封,不僅能夠保護芯片的“脆弱身軀”,還能將芯片上的接點與封裝外殼相連,實現(xiàn)芯片內(nèi)部功能的“對外輸出”。而芯片測試則是確保封裝后的芯片能夠“持證上崗”,滿足各項性能指標的“終極考核”。
圖:半導(dǎo)體Wire Bonding封裝工藝示意圖
保護芯片:封裝為脆弱的芯片提供物理保護,防止其受到機械損傷、濕氣、灰塵和其他環(huán)境因素的影響。
電氣連接:封裝通過引線或焊球?qū)⑿酒慕狱c與外部電路連接起來,確保信號和電力的有效傳輸。
散熱管理:封裝材料和技術(shù)有助于散熱,防止芯片因過熱而性能下降或損壞。
尺寸適配:封裝使芯片能夠適應(yīng)不同的應(yīng)用場景和設(shè)備,滿足各種尺寸和形狀的要求
可以說,封裝與測試環(huán)節(jié)直接決定了芯片的可靠性和性能表現(xiàn),是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中不可或缺的關(guān)鍵一環(huán)。
02
全球封裝技術(shù)演進史:從通孔插裝到3D封裝的跨越式發(fā)展
封裝技術(shù)的演進史,不僅是一部技術(shù)創(chuàng)新的編年史,更是一部電子產(chǎn)業(yè)不斷突破極限、重塑未來的奮斗史。封裝技術(shù)作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心環(huán)節(jié),經(jīng)歷了從1.0到5.0時代的跨越式演進:
全球封裝技術(shù)向先進封裝邁進 |
階段 | 起始時間 | 封裝形式 | 具體典型的封裝形式 |
第一階段 | 1970s以前 | 通孔插裝型封裝 | 晶體管封裝(TO)、陶瓷雙列直插封裝(CDIP)、塑料雙列直插封裝(PDIP)、單列直插式封裝(SIP)等 |
第二階段 | 1980s以后 | 表面貼裝型封裝 | 塑料有引線片式載體封裝(PLCC)、塑料四邊引線扁平封裝(PQFP)、小外形表面封裝(SOP)、無引線四邊扁平封裝(PQFN)、雙邊扁平無引腳封裝(DFN)等 |
第三階段 | 1990s以后 | 球柵陣列封裝(BGA) | 塑料焊球陣列封裝(PBGA)、陶瓷焊球陣列封裝(CBGA)、帶散熱器焊熱陣列封裝(EBGA)、倒裝芯片焊球陣列封裝(FC-BGA) |
芯片級封裝 (CSP) | 引線框架型CSP封裝、柔性插入板CSP封裝、剛性插入板CSP封裝、圓片級CSP封裝 | ||
第四階段 | 20世紀末 | 多芯片組封裝(MCM) | 多層陶瓷基板(MCM-C)、多層薄膜基板(MCM-D)、多層印刷板(MCM-L) |
系統(tǒng)級封裝(SiP)、芯片上制作凸點(Bumping) | |||
第五階段 | 21世紀開始 | 晶圓級系統(tǒng)封裝-硅通孔(TSV)、扇出型集成電路封裝(Fan-Out)、三維立體封裝(3D) |
1.0時代(20世紀70年代前),通孔插裝型封裝主導(dǎo)市場,代表技術(shù)包括晶體管封裝(TO)和陶瓷雙列直插封裝(CDIP),通過引線插入PCB板通孔的方式,滿足了早期電子產(chǎn)品的需求。
圖:TO封裝和CDIP封裝
2.0時代(20世紀80年代),表面貼裝技術(shù)(SMT)革命帶來了塑料四邊引線扁平封裝(PQFP)和小外形表面封裝(SOP)等創(chuàng)新,實現(xiàn)了更小尺寸和更高密度封裝,推動了消費電子的快速發(fā)展。
圖:PQFP封裝和SOP封裝
3.0時代(20世紀90年代),見證了BGA與CSP技術(shù)的崛起,塑料焊球陣列封裝(PBGA)和倒裝芯片焊球陣列封裝(FC-BGA)等核心創(chuàng)新提升了I/O密度,改善了散熱性能,滿足了高性能計算的需求。
圖:PBGA封裝和BGA封裝
4.0時代(20世紀末),多芯片組封裝(MCM)時代來臨,系統(tǒng)級封裝(SIP)和芯片上制作凸點(Bumping)等技術(shù)突破實現(xiàn)了異質(zhì)集成,推動了模塊化設(shè)計的發(fā)展。SiP 可以將不同功能、不同工藝的芯片和元件整合到一個封裝中,實現(xiàn)異質(zhì)整合(Heterogeneous Integration)。這種封裝技術(shù)在將多個芯片、被動元件(如電容、電阻)、連接器、電路等整合到一個封裝體內(nèi),從而形成一個完整的系統(tǒng)。這種技術(shù)的出現(xiàn)是為了應(yīng)對現(xiàn)代電子產(chǎn)品對小型化、高性能、低功耗和快速上市的需求。
圖:系統(tǒng)級封裝SIP封裝
5.0時代(21世紀),先進封裝技術(shù)全面爆發(fā),硅通孔(TSV)、扇出型封裝(Fan-Out)和3D封裝等前沿方向突破了摩爾定律的限制,支撐了高性能計算(HPC)、人工智能(AI)等新興應(yīng)用場景的發(fā)展。而CoWoS正是使用硅通孔(TSV)技術(shù),通過在硅片中鉆孔并填充導(dǎo)電材料,形成垂直的電連接通道,使得芯片可以在三維空間中進行高效通信。
圖:從Wire Bonding封裝到TSV封裝技術(shù)發(fā)展
TSV(Through Silicon Via,硅通孔)技術(shù)可以實現(xiàn)硅片內(nèi)部垂直電互聯(lián),是實現(xiàn)2.5D、3D先進封裝的關(guān)鍵技術(shù)之一。相比平面互連,TSV可減小互連長度和信號延遲,降低寄生電容和電感,實現(xiàn)芯片間低功耗和高速通信。
圖:TSV硅通孔技術(shù)
硅通孔(TSV)封裝主要優(yōu)勢在于性能優(yōu)越且封裝尺寸較小。使用引線鍵合(Wire Bonding)芯片堆疊封裝利用引線連接至各個堆疊芯片側(cè)面,隨著堆疊芯片以及連接引腳(Pin)數(shù)量增加,引線變得更加復(fù)雜,且需更多空間來容納引線。相比之下,硅通孔芯片堆疊則不需要復(fù)雜布線,因而封裝尺寸更小。
圖:引線鍵合(Wire Bonding)技術(shù)與硅通孔(TSV)技術(shù)對比
隨著先進制程的重要性日益凸顯,三星、英特爾等 IDM,日月光等 OSAT(外包半導(dǎo)體組裝和測試)廠商都在發(fā)力先進封裝。而采用了TSV硅中介層的關(guān)鍵技術(shù) CoWoS,正在成為臺積電在 AI 競爭中的又一個殺手锏,這項2.5D先進封裝技術(shù)也隨著AIGC引發(fā)的熱潮,被推到了這場芯片革命的浪尖上。
03
CoWoS:多維互連,突破傳統(tǒng)"物理極限困境"
芯片封裝由 2D 向 3D發(fā)展的過程中,衍生出多種不同的封裝技術(shù)。其中,2.5D 封裝是一種先進的異構(gòu)芯片封裝,可以實現(xiàn)從成本、性能到可靠性的完美平衡。
何為2.5D封裝?
2.5D封裝是將處理器、記憶體或其他晶片以覆晶方式,經(jīng)微凸塊以水平堆疊在硅中介層上,連結(jié)不同晶片的電子信號,再透過是中介層中的硅通孔(TSV)連結(jié)下方的金屬凸塊,再封裝到基板上,使芯片與基板更緊密互連。從側(cè)面圖看,芯片雖然是堆疊起來的,本質(zhì)還是水平封裝,但芯片間距更近,芯片尺寸也更小。
2.5D 封裝是一種先進的異構(gòu)芯片封裝,具備低成本、高性能和可靠性等優(yōu)勢。這種設(shè)計架構(gòu)提供了更高的集成度和性能,允許多個芯片之間的高速數(shù)據(jù)傳輸和資源共享,從而實現(xiàn)了更強大的計算能力和更高效的能源利用。
圖:2.5D封裝示意圖
目前先進的CoWoS就屬于2.5D封裝,師出同門的還有InFO,這也成了NVIDIA發(fā)展AI芯片的最佳助攻手。
圖:2.5D封裝與3D封裝
何為CoWoS?
2008年臺積電成立集成互連與封裝技術(shù)整合部門,專門研究先進封裝技術(shù),重心發(fā)展扇出型封裝InFO、2.5D封裝CoWoS和3D封裝SoIC。目前CoWoS 封裝技術(shù)已經(jīng)成為了眾多國際算力芯片廠商的首選,是高端性能芯片封裝的主流方案之一,該方案具備提供更高的存儲容量和帶寬的優(yōu)勢,適用于處理存儲密集型任務(wù),如深度學(xué)習(xí)、5G 網(wǎng)絡(luò)、節(jié)能的數(shù)據(jù)中心等。
圖:臺積電3DFabric技術(shù)平臺
CoWoS(Chip On Wafer On Substrate)是一種2.5D的整合生產(chǎn)技術(shù),其核心是將不同的芯片堆疊在同一片硅中介層以實現(xiàn)多顆芯片互聯(lián)。具體而言,CoWoS由CoW和WoS組合而來:
圖:Chip-on-Wafer-on-Substrate
CoW:Chip-on-Wafer 芯片堆疊
WoS:Wafer-on-Substrate 芯片連接基板
CoWoS通過“三明治”結(jié)構(gòu)將多個芯片(如CPU、GPU、HBM內(nèi)存)集成到同一基板上,這個過程,我們稱為:Chip on Wafer(CoW),即先將多個層芯片堆疊,通過的封裝制程連接至硅晶圓。
利用硅中介層(Interposer)上的微米級金屬線和硅通孔(TSV)實現(xiàn)高速互聯(lián),把CoW芯片與基板(Substrate)連接,即:Wafer-on-Substrate 芯片連接基板,最終整合形成CoWoS。
簡單來說,它把傳統(tǒng)“單層芯片”升級為“多層積木”,讓不同功能的芯片協(xié)同工作,突破單一芯片的性能天花板。
圖:CoWoS封裝技術(shù)
相比傳統(tǒng)封裝,CoWoS具備“高帶寬”與“低延遲”兩大核心優(yōu)勢:
高帶寬:CoWoS的互連密度提升10倍以上,帶寬可達數(shù)百GB/s,功耗降低30%,可滿足AI訓(xùn)練和推理對海量數(shù)據(jù)的吞吐需求。例如,英偉達H100 GPU通過CoWoS封裝8顆芯片和12個HBM3,算力達到4000 TFLOPS。
低延遲:芯片間距離縮短至微米級,信號傳輸延遲從毫秒級降至納秒級,適合實時決策場景(如自動駕駛)。
CoWoS 作為 2.5D 多芯片封裝技術(shù),具備提供更高的存儲容量和帶寬的優(yōu)勢,適用于處理存儲密集型任務(wù),如深度學(xué)習(xí)、5G 網(wǎng)絡(luò)、節(jié)能的數(shù)據(jù)中心等。CoWoS 封裝技術(shù)已經(jīng)成為了眾多國際算力芯片廠商的首選,是高端性能芯片封裝的主流方案之一。
04
慕藤光智能成像光學(xué)系統(tǒng)助力先進封裝檢測
2.5D/3D先進封裝技術(shù),通過將多個芯片進行高密度集成,實現(xiàn)了更高的性能和更小的尺寸。然而,復(fù)雜的工藝也帶來了諸多挑戰(zhàn),尤其是CoWoS,每個晶圓芯片在安裝到中介層之前都需要單獨測試,安裝后還需要再次測試。除此之外,硅通孔 (TSV) 也需要測試,尤其大型硅中介層特別容易受到制造缺陷的影響,可能導(dǎo)致產(chǎn)量損失。
如果在堆疊之前,沒有針對單一的裸晶做好合格的測試,而誤將合格的A芯片跟失效的B芯片結(jié)合在一起,那么不只是做出來的芯片,不僅白白損失了前面的制程,更加浪費大量的人力、物力跟金錢,因此建立良率測試流程非常重要。
良率跟成本間的權(quán)衡,也是需要探究的問題。如果想要保證最佳的良率,最好的方式是每一道環(huán)節(jié)都進行測試,這樣生產(chǎn)成本以及制造時間也會對應(yīng)地增加,因此,要怎么測試,在什么時候測試,要做多少測試,是一門相當(dāng)深奧的學(xué)問。
而慕藤光智能光學(xué)成像系統(tǒng)(包括:激光同軸檢測光學(xué)系統(tǒng)、MCI計算光學(xué)系統(tǒng)、DIC微分干涉光學(xué)系統(tǒng))等,貫穿了半導(dǎo)體全流程的檢測,可在光刻、刻蝕、研磨等工藝后,對制程中各類表面圖形缺陷及凸點缺陷進行快速檢測,并根據(jù)客戶所需要的精度和速度進行實時調(diào)整。
●自動光學(xué)檢測(AOI)
自動光學(xué)檢測(AOI)是一種新興的檢測技術(shù),在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化過程中被廣泛應(yīng)用。光學(xué)檢測是通過提高相機的分辨率來提高檢測精度的,但在視覺系統(tǒng)應(yīng)用中,存在一些限制因素。AOI 引入了亞像素定位算法,可以實現(xiàn)像素細分,從而獲得比圖像分辨率更高的精度。AOI 系統(tǒng)通過自動掃描產(chǎn)品表面來捕獲圖像,并將圖像與預(yù)先存儲在數(shù)據(jù)庫中的標準模板進行對比,通過設(shè)定的灰度和缺陷尺寸來檢測產(chǎn)品表面缺陷。AOI 系統(tǒng)還可以集成白光干涉鏡頭、激光鏡頭,從而實現(xiàn) 3D 全自動測量功能。
在 TSV 轉(zhuǎn)接板的制備過程中,光刻圖形形貌與電鍍表面質(zhì)量直接影響下一個制程的制備。為了確保產(chǎn)品圖形化后的質(zhì)量和性能,AOI 系統(tǒng)必須具備μm級的全圖形缺陷檢測能力。在AOI檢測設(shè)備中搭載慕藤光圖像對焦傳感器和MCI計算光學(xué)系統(tǒng),能夠精確地識別表面殘膠、開路、黏附以及電鍍層氧化導(dǎo)致的顏色異常等。此外,結(jié)合影像測量儀還可以實現(xiàn)膠厚測量、TSV孔深測量、凸點高度及其共面性測量。
●主動式線激光檢測
主動激光檢測技術(shù)基于主動式激光對焦原理,向被測對象施加外部主動激勵,激發(fā)其內(nèi)部缺陷的溫度分布響應(yīng)行為,通過紅外熱像儀采集缺陷信息實現(xiàn)內(nèi)部缺陷檢測及量化分析。
慕藤光激光同軸對焦系統(tǒng)采用主動式自動對焦,通過傳感器發(fā)射一束紅外線或超聲波,來感知并測量物體距離相機的距離,然后移動鏡頭來調(diào)整焦距,直到物體在取景器中清晰可見。對于應(yīng)對TSV三維封裝中底部空洞缺陷、填充缺失缺陷等各類缺陷及2.5D/3D復(fù)雜表面檢測,具備分段式檢測、快速對焦、實時成像的優(yōu)勢。
05
結(jié)語
從“單芯片”到“芯片系統(tǒng)”,CoWoS不僅是封裝技術(shù)的革新,更是對計算架構(gòu)的重新定義。隨著AI算力需求指數(shù)級增長,這項“超級積木”的封裝技術(shù)將推動“超級芯片”從數(shù)據(jù)中心到終端設(shè)備(如自動駕駛、VR設(shè)備)的全面升級。
對于像慕藤光這樣的智能光學(xué)系統(tǒng)上游企業(yè)而言,服務(wù)技術(shù)的領(lǐng)先性、國產(chǎn)替代能力、產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同性,將成為助力國產(chǎn)工藝升級迭代的最強“機器視覺”。
慕藤光憑借其快速對焦、實時跟焦以及全方位的高精度成像技術(shù),為CoWoS等先進封裝工藝提供了可靠的檢測解決方案,助力國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備在高端制造領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。未來十年,CoWoS與3.D封裝或?qū)⒅匦聲鴮懓雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè)的競爭格局,讓我們共同期待做芯片時代的“弄潮兒”。
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